All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Selfordered Pore Structure of Anodized Alumina Thin Film on Si Substrate

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F05%3APU51865" target="_blank" >RIV/00216305:26220/05:PU51865 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Selfordered Pore Structure of Anodized Alumina Thin Film on Si Substrate

  • Original language description

    The purpose of our method is creating a template for electro deposition of nanowires directly on n-type Si substrate. The thickness of aluminum layer is 1-2 um. The first task was to find an efficient method for deposition of thin alumina film. The sputtering was found to be unsuitable for anodization process because nanocrytals had been created during the deposition of film. The creating of ordered pore structure failed. We found conditions in which aluminum layer is not dissolved during anodization beefore than pore structure is created.

  • Czech name

    Samouspořádací pórovitá struktura anodizované tenkovrstvé keramiky na Si susbtrátu

  • Czech description

    Cílem metody je vytvoření šablony pro elektrodepozici nanotyčinek přímo na n-typ Si substrát. Tloušťka hliníkové vrstvy je 1-2 um. Prvním úkolem bylo nalezeníúčinné metody pro depozici tenké vrstvy hliníku. Naprašování bylo vyhodnoceno jako nevhodná technika pro následnou anodizaci, protože během anodizace vrstvy vznikaly velké krystaly. Vytváření uspořádané struktury poté selhávalo. Nalezli jsme podmínky ve kterém hliníková vrstva není rozpuštěna během anodizace předtím než vznikne pórovitá struktura.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    CG - Electrochemistry

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/GP102%2F04%2FP162" target="_blank" >GP102/04/P162: Micro- and nanomachining structures fabricated by microelectronics technologies</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2005

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    Electronic Devices and Systems IMAPS CS International Conference 2005

  • ISBN

    80-214-2990-9

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    4

  • Pages from-to

    300-303

  • Publisher name

    Ing. Zdeněk Novoný, CSc.

  • Place of publication

    NEUVEDEN

  • Event location

    Brno

  • Event date

    Sep 15, 2005

  • Type of event by nationality

    CST - Celostátní akce

  • UT code for WoS article