Passivation layers of solar cells by means of reactive magnetron sputtering created

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU59352" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU59352 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Pasivační vrstvy solárních článků vytvářené reaktivním magnetronovým naprašováním

Original language description

Depozice antireflexní a pasivační vrstvy patří k jednomu z nejdůležitějších kroků při výrobě fotovoltaických článků. Vytváří antireflexní vrstvu, která zabraňuje pronikání nežádoucích složek světelného záření do substrátu. Pasivace také redukuje poruchyna křemíkovém povrchu a tím ovlivňuje výsledné rekombinačí parametry celého článku. V současném fotovoltaickém průmyslu je pro povrchovou pasivaci nejpoužívanějším materiálem plasmaticky nanášený nitrid křemíku (SiNx). V naší práci se zabýváme depozicí různých typů pasivačních vrstev na zadní strany budoucích solárních článků (SiNx, Si3N4, SiO2, Al2O3 a AlN) pomocí reaktivního magnetronového naprašování.. Pasivační vrstvy se deponují v plazmochemickém prostředí působením procesních plynů. Systém je charakteristický nízkým tlakem reakčních směsí a poměrně nízkými depozičními teplotami (do 200°C). Cílem práce je charakterizace vyrobených

Czech name

Pasivační vrstvy solárních článků vytvářené reaktivním magnetronovým naprašováním

Czech description

Depozice antireflexní a pasivační vrstvy patří k jednomu z nejdůležitějších kroků při výrobě fotovoltaických článků. Vytváří antireflexní vrstvu, která zabraňuje pronikání nežádoucích složek světelného záření do substrátu. Pasivace také redukuje poruchyna křemíkovém povrchu a tím ovlivňuje výsledné rekombinačí parametry celého článku. V současném fotovoltaickém průmyslu je pro povrchovou pasivaci nejpoužívanějším materiálem plasmaticky nanášený nitrid křemíku (SiNx). V naší práci se zabýváme depozicí různých typů pasivačních vrstev na zadní strany budoucích solárních článků (SiNx, Si3N4, SiO2, Al2O3 a AlN) pomocí reaktivního magnetronového naprašování.. Pasivační vrstvy se deponují v plazmochemickém prostředí působením procesních plynů. Systém je charakteristický nízkým tlakem reakčních směsí a poměrně nízkými depozičními teplotami (do 200°C). Cílem práce je charakterizace vyrobených

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

JA - Electronics and optoelectronics

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

2.česká fotovoltaická konference

ISBN

80-239-7361

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

3

Pages from-to

1-3

Publisher name

Czech RE Agency

Place of publication

Rožnov pod Radhoštěm

Event location

hotel Myslivna

Event date

Jun 12, 2006

Type of event by nationality

EUR - Evropská akce

UT code for WoS article

—