All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU65139" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU65139 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Reactive Magnetron Sputtering for Passivation of Solar Cells

  • Original language description

    We use magnetron sputtering to create of passivation films on the surface of photovoltaic solar cells. For the passivation layer created by this technology is characteristic the high deposition rate with relatively precise layer thickness control.. By reactive magnetron sputtering we deposited the materials currently used in the photovoltaic industry, the SiN (Silicon Nitrid) and SiO2, next the AlN and Al2O3. The aim of work is evaluation of both surface recombination and optical properties of this layers and their comparison with standard solar cells made by Solartec company (Czech republic.

  • Czech name

    Reaktivní magnetronové naprašování pro pasivaci solárních článků

  • Czech description

    Magnetronové naprašování v naší práci používáme k vytváření pasivačních vrstev fotovoltaických článků. Pro pasivaci povrchů touto technologií je charakteristická vysoká rychlost depozice s přesně definovanou tloušťkou.Díky této metodě je možné deponovathlavní používané materiály ve fotovoltaice SiNx, SiO2 a dále např. AlN nebo Al2O3. Cílem práce je snižování povrchové rekombinace a optických parametrů solárních článků ve spolupráci s firmou Solartec s.r.o.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    JA - Electronics and optoelectronics

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2006

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    IMAPS CS International Conference 2006, Proceedings

  • ISBN

    80-214-3246-2

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    4

  • Pages from-to

    526-529

  • Publisher name

    nakl. Z. Novotný

  • Place of publication

    NEUVEDEN

  • Event location

    Brno

  • Event date

    Sep 14, 2006

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article