Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F04%3APU46602" target="_blank" >RIV/00216305:26310/04:PU46602 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films

Original language description

Our work deals with the identification of the intensive spectral lines and bands measured during the plasma deposition using the hexamethyldisiloxane (HMDSO) and the tetravinylsilane (TVS) as monomer. The deposition processes were carried out in a continual regime as well as in a pulsed regime with the varied relative pulse duration. At first, the pure monomers were used. Furthermore, tetravinylsilane was mixed in various ratios with oxygen, the CH4 + H2 gas mixture was added to hexamethyldisiloxane. WWe observed a lot of changes in intensity and character of spectra with increasing pulse duration, with increasing oxygen flow rate. Oxygen has an important role for the creation of various fragments and cyclic oligomers. In the next part of experiment,exhaust gas was investigated by gas-chromatography and mass spectrometry (GC-MS). Oligomers with complex structure were identified.

Czech name

Diagnostika plazmatu během depozice tenkých vrstev založených na silanu

Czech description

Práce podává přehled o spektrálních atomárních čarách a molekulových pásech identifikovaných v emisních spektrech během depozice vrstev založených na silanech. Jako monomery byly použity hexamethyldisiloxane (HMDSO) a tetravinylsilane (TVS). Depozice probíhala v kontinuálním i pulsním režimu s proměnlivou délkou pulsu. Kromě čistých monomerů byly použity k depozici i jejich směsi s kyslíkem a směs CH4 + H2. Byly pozorovány výrazné změny ve spektrech jak vlivem složení reakční směsi, tak i dalších depozzičních podmínek. Kyslík hraje významnou roli při vzniku různých fragmentů a cyklických oligomerů. Poslední experimenty byly zaměřeny na studium složení plazmatu pomocí GC-MS.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GD202%2F03%2FH162" target="_blank" >GD202/03/H162: Advanced topics in physics and chemistry of plasmas</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Czechoslovak Journal of Physics

ISSN

0011-4626

e-ISSN

—

Volume of the periodical

54

Issue of the periodical within the volume

C

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

6

Pages from-to

1036-1041

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—