Prototype of a dual-beam scanning electron microscope with a focused ion beam for analyses in the semiconductor industry
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F01733214%3A_____%2F14%3A00000003" target="_blank" >RIV/01733214:_____/14:00000003 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Prototyp systému na bázi duálního svazku (SEM/plazmatický fokusovaný iontový zdroj) určený k analýzám v polovodičovém průmyslu
Original language description
Výsledkem je prototyp elektronového mikroskopu na bázi FERA3 se Schottkyho autoemisní katodou a extra velkou analytickou komorou určený pro práci ve vysokém vakuu, kombinovaný s fokusovaným iontovým svazkem na bázi Xe plasmatu (i-FIB) se sníženým proudem na 1uA. Vyvinutý systém má unikátní vlastnosti uzpůsobené na míru požadavkům z polovodičového průmyslu. Integrace Xenonového plasmového zdroje iontů přináší možnost efektivního obrábění polovodičových vzorků. Speciálně upravená komora mikroskopu umožňuje analýzu 300 mm desek a možnost prozkoumat 150 mm desky bez rotace. Integrace jednotlivých detekčních technik pak umožňují komplexní analýzu polovodičového vzorku. Dle specifických požadavků polovodičových laboratoří byl vyvinut softwarový modul pro navigaci po waferu za pomoci CAD navigačních dat spolupracující se zobrazovacím systémem Camelot a navigace pomocí tabulky defektů z KLA inspekčních mikroskopů. Dle požadavků pro editaci integrovaných obvodů bylo vyvinuto softwarové rozšíření DrawBeamu pro monitorování síly signálu během mletí FIBem k určení kontaktu s podpovrchovými propojkami.
Czech name
Prototyp systému na bázi duálního svazku (SEM/plazmatický fokusovaný iontový zdroj) určený k analýzám v polovodičovém průmyslu
Czech description
Výsledkem je prototyp elektronového mikroskopu na bázi FERA3 se Schottkyho autoemisní katodou a extra velkou analytickou komorou určený pro práci ve vysokém vakuu, kombinovaný s fokusovaným iontovým svazkem na bázi Xe plasmatu (i-FIB) se sníženým proudem na 1uA. Vyvinutý systém má unikátní vlastnosti uzpůsobené na míru požadavkům z polovodičového průmyslu. Integrace Xenonového plasmového zdroje iontů přináší možnost efektivního obrábění polovodičových vzorků. Speciálně upravená komora mikroskopu umožňuje analýzu 300 mm desek a možnost prozkoumat 150 mm desky bez rotace. Integrace jednotlivých detekčních technik pak umožňují komplexní analýzu polovodičového vzorku. Dle specifických požadavků polovodičových laboratoří byl vyvinut softwarový modul pro navigaci po waferu za pomoci CAD navigačních dat spolupracující se zobrazovacím systémem Camelot a navigace pomocí tabulky defektů z KLA inspekčních mikroskopů. Dle požadavků pro editaci integrovaných obvodů bylo vyvinuto softwarové rozšíření DrawBeamu pro monitorování síly signálu během mletí FIBem k určení kontaktu s podpovrchovými propojkami.
Classification
Type
G<sub>prot</sub> - Prototype
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2014
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
FERA pro polovodičový průmysl
Numerical identification
—
Technical parameters
Nagavalli S. Kiran, kiran@tescan.cz; 530 353 131
Economical parameters
Prototyp přístroje bude v roce 2015 instalován u uživatele z řad výrobců integrovaných obvodů. Očekáváme růst zisku plynoucí z diversifikace produktového portfolia.
Application category by cost
—
Owner IČO
01733214
Owner name
TESCAN Brno, s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Web page
—