The methodology for performing Xe Plasma FIB-SEM analyzes
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F16%3AN0000009" target="_blank" >RIV/26821532:_____/16:N0000009 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Metodika provádění analýz na zařízení Xe Plasma FIB-SEM
Original language description
Metodika provádění analýz na zařízení Xe Plasma FIB-SEM byla shrnuta v pracovním postupu „12MON19412G: Obsluha elektronového mikroskopu s iontovým svazkem Plasma Xe FIB/SEM FERA3 TESCAN / Dual Beam FIB/SEM Work Instructions“ řízeném v korporátním systému AGILE ON Semiconductor. Vlastníkem dokumentu je Vladislav Hrachovec, verze A byla vydána 30. 12. 2016, rozsah dokumentu je 150 str. Řízená dokumentace zahrnuje popis metod, přípravy vzorků, návod k provádění analýzy a obsluze zařízení v rozsahu ověřené technologie úprav a vyhodnocování vzorků. Na instalovaném zařízení bylo uvedeným postupem v roce 2016 provedeno více než 300 standardních analýz s odpovídajícími dílčími zprávami v oblastech: FA (Failure Analysis – analýzy selhání), NPD (New Process Development – analýzy pro kvalifikace nových výrobních postupů), R&D (podpora vývoje nových materiálů a technologií). Výsledky byly bez výhrad akceptovány v souladu se standardy polovodičového průmyslu a normami jakosti ISO.
Czech name
Metodika provádění analýz na zařízení Xe Plasma FIB-SEM
Czech description
Metodika provádění analýz na zařízení Xe Plasma FIB-SEM byla shrnuta v pracovním postupu „12MON19412G: Obsluha elektronového mikroskopu s iontovým svazkem Plasma Xe FIB/SEM FERA3 TESCAN / Dual Beam FIB/SEM Work Instructions“ řízeném v korporátním systému AGILE ON Semiconductor. Vlastníkem dokumentu je Vladislav Hrachovec, verze A byla vydána 30. 12. 2016, rozsah dokumentu je 150 str. Řízená dokumentace zahrnuje popis metod, přípravy vzorků, návod k provádění analýzy a obsluze zařízení v rozsahu ověřené technologie úprav a vyhodnocování vzorků. Na instalovaném zařízení bylo uvedeným postupem v roce 2016 provedeno více než 300 standardních analýz s odpovídajícími dílčími zprávami v oblastech: FA (Failure Analysis – analýzy selhání), NPD (New Process Development – analýzy pro kvalifikace nových výrobních postupů), R&D (podpora vývoje nových materiálů a technologií). Výsledky byly bez výhrad akceptovány v souladu se standardy polovodičového průmyslu a normami jakosti ISO.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2016
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
12MON19412G
Numerical identification
TE01020233-2016V003
Technical parameters
12MON19412G: Obsluha elektronového mikroskopu s iontovým svazkem Plasma Xe FIB/SEM FERA3 TESCAN / Dual Beam FIB/SEM Work Instructions“ řízeném v korporátním systému AGILE ON Semiconductor. Vlastníkem dokumentu je Vladislav Hrachovec, verze A byla vydána 30. 12. 2016, rozsah dokumentu je 150 str. Řízená dokumentace zahrnuje popis metod, přípravy vzorků, návod k provádění analýzy a obsluze zařízení v rozsahu ověřené technologie úprav a vyhodnocování vzorků.
Economical parameters
Komplexní polovodičová platforma Plasma Xe FIB SEM má referenční hodnotu 30 mil. Kč. Počet standardních analýz polovodičových materiálů a součástek >300/rok.
Application category by cost
—
Owner IČO
26821532
Owner name
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—