Construction of semiconductor lab for FIB SEM in ON SEMICONDUCTOR

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F15%3A%230000093" target="_blank" >RIV/26821532:_____/15:#0000093 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Vytvoření laboratorního pracoviště k přípravě, analýze a vyhodnocování vzorků z polovodičové výroby ON SEMICONDUCTOR

Original language description

Výsledkem projektu je vytvoření laboratorního pracoviště využívajícího duálního systému Plasma Xe FIB-SEM osazeného detektory umožňujícími užití dalších analytických technik (CL, EBIC, EDX, EBSD). Pracoviště je začleněno do stávající struktury laboratoříON SEMICONDUCTOR a bude sloužit k analýzám výroby křemíkového substrátu, výroby polovodičových struktur, v oblasti designu nových struktur, vývoje nových technologií výroby, procesní a výstupní kontroly i k analýzám vad finálních produktů. Pracoviště bude díky metodě FIB zahrnovat i přípravu polovodičových vzorků k vlastním analýzám. Díky novým analytickým metodám a rozšířeným možnostem analýzy založených na Plasma Xe FIB-SEM systému bude nové pracoviště vhodně doplňovat a rozšiřovat současné možnostilaboratoří ON SEMICONDUCTOR v Rožnově pod Radhoštěm. Standardní metodiky, které se využívají k analýzám v polovodičovém průmyslu, je možné doplnit a zefektivnit použitím Plasma Xe FIB-SEM mikroskopu. Mezi zásadní faktory jeho použití patř

Czech name

Vytvoření laboratorního pracoviště k přípravě, analýze a vyhodnocování vzorků z polovodičové výroby ON SEMICONDUCTOR

Czech description

Výsledkem projektu je vytvoření laboratorního pracoviště využívajícího duálního systému Plasma Xe FIB-SEM osazeného detektory umožňujícími užití dalších analytických technik (CL, EBIC, EDX, EBSD). Pracoviště je začleněno do stávající struktury laboratoříON SEMICONDUCTOR a bude sloužit k analýzám výroby křemíkového substrátu, výroby polovodičových struktur, v oblasti designu nových struktur, vývoje nových technologií výroby, procesní a výstupní kontroly i k analýzám vad finálních produktů. Pracoviště bude díky metodě FIB zahrnovat i přípravu polovodičových vzorků k vlastním analýzám. Díky novým analytickým metodám a rozšířeným možnostem analýzy založených na Plasma Xe FIB-SEM systému bude nové pracoviště vhodně doplňovat a rozšiřovat současné možnostilaboratoří ON SEMICONDUCTOR v Rožnově pod Radhoštěm. Standardní metodiky, které se využívají k analýzám v polovodičovém průmyslu, je možné doplnit a zefektivnit použitím Plasma Xe FIB-SEM mikroskopu. Mezi zásadní faktory jeho použití patř

Type

Z_tech - Verified technology

CEP classification

JA - Electronics and optoelectronics

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2015

Confidentiality

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID

TE01020233V004:- Čisté prostory V20

Numerical identification

—

Technical parameters

Plasma Xe FIB-SEM, EDX, STEM, komora pro nedestruktivní analýzy desek do průměru 300 mm, pro desky průměru 150 mm bez jejich rotace. Výsledek využije ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o. (IČ 26821532) ve vlastní výrobě. Odpovědná osoba: Michal Lorenc,ON SEMICONDUCTOR, 1. máje 2230, 7561 61 Rožnov p.R., +420 571 754 507, michal.lorenc@onsemi.com.

Economical parameters

Výše investice do zprovoznění technologie(vybudování čistých prostor): 0,5 mil. USD. Potenciál k úspoře nákladů100 - 200 tis. USD/rok (eleiminace externích analýz, využití úprav vzorků FIB, zrychlení komplexních analýz).

Application category by cost

—

Owner IČO

26821532

Owner name

ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Licence fee requirement

—

Web page

—