The plasma oxidation of tin thin films: AFM and SIMS study

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F05%3A00003098" target="_blank" >RIV/44555601:13440/05:00003098 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
The plasma oxidation of tin thin films: AFM and SIMS study
Original language description
Atomic Force Microscopy (AFM) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) have been used to characterize surface morphology and structure of SnO2 thin films prepared by plasma oxidation. The surface structure of the SnO2 thin films was found to be dependent on the plasma oxidizing mixture (oxygen /argon) parameters.
Czech name
Plazmová oxidace tenkých vrstev cínu: AFM a SIMS studium
Czech description
Mikroskopie atomárních sil (AFM) a hmotnostní spektrometrie sekundárních iontů (SIMS) byly použity pro charakterizaci morfologie a struktury povrchu tenkých vrstev SnO2 připravených plazmovou oxidací. Stechiometrie tenkých vrstev SnO2 závisí na parametrech plazmatu buzeného ve směsi argonu a kyslíku během plazmové oxidace.

Project
<a href="/en/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Polymer Thin Films Study by AFM and Improvement of Plasma Diagnostics Methods</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Proceedings of the 15th SAPP and 3rd EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
ISBN
80-223-2018-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
251-252
Publisher name
Comenius University Press
Place of publication
Bratislava, Slovakia
Event location
Podbánské, Slovakia
Event date
Jan 15, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)