Surface characterization of plasma oxidized tin films

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F05%3A00003099" target="_blank" >RIV/44555601:13440/05:00003099 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Surface characterization of plasma oxidized tin films
Original language description
In this paper were studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of Sn films followed by in situ plasma oxidation with additional substrate heating. The oxide layer properties were investigated by Atomic Force Microscopy (AFM) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS). The plasma oxidation with additional substrate heating is a possible alternative method for preparing stochiometric SnO2 layers.
Czech name
Analýza povrchu plazmaticky oxidovaných tenkých vrstev cínu.
Czech description
V této práci byly zkoumány povrchové vlastnosti tenkých vrstev SnO2 připravených plazmovou oxidací tenkých vrstev cínu za dodatečného ohřevu substrátu. Vlastnosti vrstev oxidů byly zkoumány mikroskopií atomárních sil (AFM) a hmotnostní spektrometrií sekundárních iontů (SIMS). Dosažené výsledky ukázaly, že plazmová oxidace tenkých vrstev cínu za dodatečného ohřevu substrátu je jednou z možných alternativních metod přípravy stechiometrických SnO2 vrstev.

Project
<a href="/en/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Polymer Thin Films Study by AFM and Improvement of Plasma Diagnostics Methods</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

ISBN
—
Place of publication
Toronto, Kanada
Publisher/client name
Centre for Advanced Coating Technologies, Faculty of Applied
Version
—
Carrier ID
CD

Similar results(10)