High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F07%3A00003912" target="_blank" >RIV/44555601:13440/07:00003912 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/49777513:23520/07:00502196
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency
Original language description
The article reports on low-temperature high-rate sputtering of hydrophilic transparent TiO2 thin films using dc dual magnetron (DM) sputtering in Ar + O2 mixture on unheated glass substrates. Properties of a thin hydrophilic TiO2 film deposited on a polycarbonate substrate are given.
Czech name
Vysokorychlostní nízkoteplotní DC puslní magnetronové naprašování tenkých vrstev fotokatalyckého TiO2 : vliv opakovací frekvence
Czech description
Článek informuje o přípravě hydrofilních průhledných tenkých vrstev metodou nízkoteplotního vysokorychlostního naprašování pomocí duálního magnetronu v směsi argonu a kyslíku. Byly popsány vlastnosti tenkých hydrofilních vrstev TiO2 připravených na substrátech z polykarbonátu.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Crystallization of amorphous and nanocrystalline thin films</a><br>
Continuities
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)