Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000156" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000156 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/49777513:23520/07:00000022

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering

Original language description

The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Titargets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure.

Czech name

Vliv energie při nízkoteplotní vysokorychlostní pulzní magnetronové depozici hydrofilních vrstev TiO2

Czech description

Článek se podrobně věnuje nízkoteplotní přípravě fotoaktivních vrstev TiO2 připravených pulzním duálním magnetronem a studiu vlivu dodané energie do deponovaných TiO2-x vrstev a jejich vlastností. Hlavní pozornost je věnována studiu vlivu délky pulzu navlastnosti připravených vrstev. Bylo prokázáno, že (1) snížení délky pulzu výrazně ovlivňuje iontový tok na substrát je možné připravit nanokrystalické TiO2 vrstvy s vysokou fotoaktivitou i při teplotě Tsurf<100°C (2) zvýšení opakovací frekvence zdroje vede ke zvýšení efektivity depozičního procesu a výraznému zvýšení depoziční rychlosti vrstev.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Crystallization of amorphous and nanocrystalline thin films</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

9

Pages from-to

666

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—