Gas-aggregation system for deposition of Cu and Ti nanoclusters
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F10%3A%230000001" target="_blank" >RIV/45309787:_____/10:#0000001 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://www.hvm.cz" target="_blank" >http://www.hvm.cz</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Systém pro depozici Ti a Cu nanoklastrů plynově-agregační metodou.
Original language description
Zařízení a technologie pro nanášení Ti a Cu klastrů plynově agregační metodou včetně kotvících vrstev. Zařízení je koncipováno jako UHV, umožňuje nanášení překryvových vrstev. Vyvinuta technologie nanášení Ti klastrů o velikostech 2-100 nm a Cu klastrů ovelikostech 2-150 nm.
Czech name
Systém pro depozici Ti a Cu nanoklastrů plynově-agregační metodou.
Czech description
Zařízení a technologie pro nanášení Ti a Cu klastrů plynově agregační metodou včetně kotvících vrstev. Zařízení je koncipováno jako UHV, umožňuje nanášení překryvových vrstev. Vyvinuta technologie nanášení Ti klastrů o velikostech 2-100 nm a Cu klastrů ovelikostech 2-150 nm.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
JK - Corrosion and material surfaces
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/KAN101120701" target="_blank" >KAN101120701: Nanocomposite films and nanoparticles prepared in low pressure plasma for surface modifications</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2010
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
Zdroj klastrů X988
Numerical identification
—
Technical parameters
Zařízení pro nanášení Ti a Cu klastrů plynově agregační metodou včetně kotvících vrstev. Zařízení je koncipováno jako UHV, umožňuje nanášení překryvových vrstev. Vyvinuta technologie nanášení Ti klastrů o velikostech 2-100 nm a Cu klastrů o velikostech 5-150 nm.
Economical parameters
Depozice klastrů na vzorky laboratorních rozměrů.
Application category by cost
—
Owner IČO
45309787
Owner name
HVM Plasma, spol. s r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Web page
—