Method of carrying substrates for deposition of thin films on exposed substrate surface and rotary table for carrying the substrates based on the method.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F14%3A%230000008" target="_blank" >RIV/45309787:_____/14:#0000008 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.
Original language description
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu. ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek jevhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod. -Patentová přihláška
Czech name
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.
Czech description
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu. ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek jevhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod. -Patentová přihláška
Classification
Type
O - Miscellaneous
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Effective coating technology of thin passivation and antireflection layers for production of crystalline solar cells</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů