Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces, utility model no. CZ 26777 U1.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F14%3A%230000007" target="_blank" >RIV/45309787:_____/14:#0000007 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10016129&lan=cs" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10016129&lan=cs</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1.
Original language description
Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různýchsubstrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod.
Czech name
Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1.
Czech description
Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různýchsubstrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod.
Classification
Type
F<sub>uzit</sub> - Utility model
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Effective coating technology of thin passivation and antireflection layers for production of crystalline solar cells</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
26777
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
HVM Plasma, spol.sr.o.
Method of use
B - Výsledek je využíván orgány státní nebo veřejné správy
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence