Method of carrying substrates during the deposition of a thin layer on the surface of substrates and a rotary table for carrying the substrates according to the method
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F15%3A%230000012" target="_blank" >RIV/45309787:_____/15:#0000012 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.
Original language description
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod.
Czech name
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.
Czech description
Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod.
Classification
Type
P - Patent
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Effective coating technology of thin passivation and antireflection layers for production of crystalline solar cells</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2015
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
305421
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
Aug 3, 2015
Owner name
HVM PLASMA, spol. s r. o.
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence