Strain sensor for the low-cycle fatigue measurement prepared by magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F21%3AN0000002" target="_blank" >RIV/45309787:_____/21:N0000002 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Magnetronově naprašovaný tenzometrický senzor pro měření nízko cyklové únavy

Original language description

V rámci řešení projektu MPO TRIO jsme vyvinuli naprašovaný tenzometrický sensor. Tento sensor je unikátní, protože je naprašovaný přímo na materiál testovaného dílu a je od základního materiálu oddělen jen speciální dielektrickou vrstvou která je kombinací dvou materiálů – Al2O3 a Ta2O5 a dvou technologií – duálního středofrekvenčního magnetronového naprašování a duálního naprašování pomocí vysoko výkonových pulzů. Sensor je dokončen naprášením senzorické NiCr vrstvy, laserovým strukturováním této vrstvy, naprášením zlatých kontaktů a napájením měděných drátků.

Czech name

Magnetronově naprašovaný tenzometrický senzor pro měření nízko cyklové únavy

Czech description

V rámci řešení projektu MPO TRIO jsme vyvinuli naprašovaný tenzometrický sensor. Tento sensor je unikátní, protože je naprašovaný přímo na materiál testovaného dílu a je od základního materiálu oddělen jen speciální dielektrickou vrstvou která je kombinací dvou materiálů – Al2O3 a Ta2O5 a dvou technologií – duálního středofrekvenčního magnetronového naprašování a duálního naprašování pomocí vysoko výkonových pulzů. Sensor je dokončen naprášením senzorické NiCr vrstvy, laserovým strukturováním této vrstvy, naprášením zlatých kontaktů a napájením měděných drátků.

Type

G_prot - Prototype

CEP classification

—

OECD FORD branch

20506 - Coating and films

Project

<a href="/en/project/FV30177" target="_blank" >FV30177: Research and development of novel pulsed plasma technologies for deposition of advanced thin-film materials</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2021

Confidentiality

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID

HVM_2021_01

Numerical identification

—

Technical parameters

Magnetronově naprašovaný tenzometrický senzor pro měření nízko-cyklové únavy se skládá z dielektrické multivrstvy Al2O3 + Ta2O5 připravené pomocí reaktivního středofrekvenčního magnetronového naprašování a vysoko výkonového pulzního magnetronového narašování z kovových terčů (Al a Ta) o tloušťce 10 µm. Na povrch této dielektrické multivrstvy je připravena vrstva NiCr pomocí DC magnetronového naprašování o tloušťce 250 nm. Do takto připravené vrstvy je vytvořena laserovým strukturováním lamela odpovídající odporu 1 kΩ. Na kontaktní plochy lamely je pomocí DC magnetronového naprašování připraveno 30 nm zlata a jsou připájené měděné drátky. Detaily depozičních procesů nebudeme v rámci utajení popisovat.

Economical parameters

Ve spolupráci s Regionálním technologickým institutem (RTI) v Plzni bude testována potenciální aplikace připravených senzorů na dlouhotrvající sledování únavy dopravních prostředků a na testování nízko-cyklové únavy vybraných dílů. Bude hledán partner pro aplikace těchto senzorů ve strojírenství. Potenciál senzorů na zvýšení tržeb firmy HVM PLASMA očekáváme v řádu statisíců CZK ročně, pokud se partner najde. Dielektrická vrstva a senzorická vrstva, která je součástí předloženého senzoru, bude využita při dodávkách senzorických vrstev pro našeho průmyslového partnera. V tomto bodě očekáváme obraty v řádu miliónů CZK ročně od roku 2022.

Application category by cost

—

Owner IČO

45309787

Owner name

HVM PLASMA, spol. s r.o.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licence fee requirement

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Web page

—