Plasma surfatron with a defined flow of ions for cleaning sensitive surfaces with a low energy load

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46356541%3A_____%2F23%3AN0000006" target="_blank" >RIV/46356541:_____/23:N0000006 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Plazmový surfatron s definovaným tokem iontů pro čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží

Original language description

Cílem projektu příjemce byl vývoj prototypu systému plazmového surfatronu s definovaným tokem iontů pro efektivní čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží. Výsledkem je metodika a prototyp zařízení pro vysoce precizní, přesně definované a efektivní čištění povrchu pomocí plazmatu generovaného surfatronem s možností depozice tenkých funkčních vrstev bezprostředně po procesu čištění při zachování podmínek ultravysokého vakua (UHV). Tento efektivní postup umožňuje aplikovatelnost pro povrchy, které jsou charakteristické vysokými požadavky na kvalitu čištění při současném zachování integrity povrchu, např. při výrobě mikroprocesorů. Při vyvinutém konceptu surfatronového čištění dopadají na povrch výrobku částice produkované plazmatem s širokým rozsahem energií dosahujících až 30 eV. Důležitou skutečností je, že plazmatem produkované částice mohou být vysoce reaktivní což ústí v redukci nečistot kontaminujících povrch. Řešení vyvinuté příjemcem přináší zejména výhodu v podobě zastoupení vysokého počtu reaktivních částic s nízkou energií v řádu jednotek eV. Tímto převažuje efekt chemického čištění povrchu před mechanickým bombardem energetických částic, které mohou způsobovat defekty krystalické struktury ošetřovaného povrchu. Výsledkem je vyšší efektivita čištění při zachování maximální šetrnosti čištěného povrchu. Příjemce spolupracoval na vývoji společně s partnerem projektu Jihočeskou univerzitou v Českých Budějovicích.

Czech name

Plazmový surfatron s definovaným tokem iontů pro čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží

Czech description

—

Type

G_prot - Prototype

CEP classification

—

OECD FORD branch

20501 - Materials engineering

Project

<a href="/en/project/EG20_321%2F0023906" target="_blank" >EG20_321/0023906: Plasma surfatron with defined ion flux for cleaning sensitive surfaces with low energy load</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2023

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

Plazmový surfatron

Numerical identification

—

Technical parameters

Řešení představuje plazmový čistič založený na generaci mikrovlnného výboje s povrchovou vlnou. Mikrovlnný výboj je generován surfatronem. Konstrukce surfatronu využívá dvouplášťového uspořádání s křemennou trubicí uloženou do axiální osy symetrie, v níž vzniká výboj. Jedná se o bezelektrodový, tryskový, plazmatický výboj, vyfukující aktivní částice, které na substrátu redukují nečistoty. Konstrukce trubice zajišťuje vakuovou těsnost a snadnou servisovatelnost využívající montáže skrze standardní přírubu ISO-KF a ISO CF. Řešení je primárně určeno na odstranění oxidových a uhlovodíkových nečistot, ulpělých na površích substrátů v rozsahu několika monovrstev, bez mechanického narušení horních vrstev ošetřované plochy.

Economical parameters

Mezi hlavní přínosy nového řešení pro příjemce patří upevnění postavení na trhu, rozvoj spolupráce s vědeckovýzkumnými organizacemi, zvýšení obratu a tržeb či rozšíření portfolia. Řešení je primárně cíleno na oblast polovodičů, mikro a nanoelektroniky, optiky a opticky aktivních prvků. Šíření povědomí o řešení bude probíhat formou přímého setkání se zákazníkem a seznámení s nabízeným portfoliem, prezentací řešení na webu příjemce, účastí na veletrzích v ČR i v Evropě (zejména v Německu). Řešení cílí zejména na obory požadující: čištění širokého spektra povrhů kovů, skla, keramiky a plastů; aktivaci povrchů před jejich dalším opracováním; změnu povrchové energie povrchu; zvýšení adheze povrchu před nanášením tenkých vrstev; redukci oxidů vázaných na povrchu; funkcionalizaci a vytváření nových funkčních skupin na povrchu; sterilizaci ošetřovaných ploch a další. V následujících 3 letech očekává příjemce tržby z řešení v řádech jednotek až nižších desítek mil. Kč.

Application category by cost

—

Owner IČO

46356541;60076658

Owner name

LAVAT a.s.;Jihočeská univerzita v Českých Budějovicích

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licence fee requirement

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Web page

—