Investigation of internal plasma parameters in a reactor for plasma enhanced hot filament chemical vapour deposition of carbon nanotubes.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210191" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210191 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/60076658:12410/04:00005611

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Investigation of internal plasma parameters in a reactor for plasma enhanced hot filament chemical vapour deposition of carbon nanotubes.

Original language description

The plasma enhanced hot filament chemical vapour deposition process used for deposition of carbon nanotubes was investigated using Langmuir probes and optical emission spectroscopy. The electron density, electron temperature and plasma potential were meaured in relation to the discharge voltage and substrate temperature. The results are discussed in connection with the conditions for the growth of nanotubes. It is demonstrated that the production of reactive heavy particles like hydrocarbon ions takes pace predominantly in the sheath region, close to the negative biased substrate. This conclusion is supported by model calculations of the discharge current.

Czech name

Zjišťování vnitřních parametrů plazmy v reaktoru pro plasmou intezifikované chemické vylučování z plynné fáze žhaveným vláknem uhlíkových nanotrubiček.

Czech description

Plasmaticky podporovaný proces chemické depozice v plynné fázi se žhaveným vláknem použitý pro vylučování uhlíkových nanotrubiček byl zkoumán s pomocí >used for deposition of carbon nanotubes was Langmuirových sond aoptické emisní spektroskopie.Byly měřny hustota elektronů, elektronová teplota a potenciál plazmy ve vztahu k napětí výboje a teplotě substrátu. Výsledky jsou diskutovámy ve spojení as podmínkami pro růst nanotrubiček. Ukázalo se, že tvorba reaktivních těžkých částic jako jsou uhlovodíkovéonty probíhá převážně v hraniční oblasti poblíž substrátu s negativním biasem. Tento závěr je podpořen modelovými výpočty výbojového proudu.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Physics D : Applied Physics

ISSN

0022-3727

e-ISSN

—

Volume of the periodical

VOL. 37

Issue of the periodical within the volume

N. 19

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

6

Pages from-to

2709-2714

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—