Experimental and Theoretical Investigation of Plasma Enhanced Hot filament Chemical Vapour Deposition of Carbon Nanotubes.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F05%3A24210212" target="_blank" >RIV/46747885:24210/05:24210212 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Experimental and Theoretical Investigation of Plasma Enhanced Hot filament Chemical Vapour Deposition of Carbon Nanotubes.

Original language description

The plasma enhanced hot filament chemical vapour deposition process used for deposition of carbon nanotubes was investigated using Langmuir probes and optical emission spectroscopy. The electron density, electron temperature and plasma potential were meaured in relation to the discharge voltage and substrate temperature. The results are discussed in connection with the conditions for the growth of nanotubes. It is demonstrated that the production of reactive heavy particles like hydrocarbon ions takes pace predominantly in the sheath region, close to the negative biased substrate. Model calculations demonstrate the role of the electrical forces on the aligned growth of nanotubes and optimim properties for electron field emission from the nanotubes.

Czech name

Experimentální a teoretické zkoumání plasma ticky podporovaného horkovláknového chemického vylučování z plynné fáze uhlíkových nanotrubiček.

Czech description

Plazmou podporovaný proces chemické depozice zze žhavého vlákna v plynném prostředí použitý pro vylučování uhlíkových nanotrubiček byl zkoumán s použitím Lasngmuirovy sondy a optické emisní spektroskopie. Hustota elektronů, elektronová teplota a potenciáplazmy byly měřeny ve vztahu k napětí výboje a teplotě substrátu.Výsledky jsou diskutovány ve vztahu k podmínkám pro růst nanotrubiček. Je prokázáno, že tvorba reaktivních těžkých částic jako uhlovodíkových iontů probíhá převážně v oblasti blízké substrátu s negativním biasem. Modelové výpočty ukazují úlohu elektrických sil při růstu nanotrubiček a optimální vlastnosti pro emisi elektronového pole od nanotrubiček.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Plasma Polymers and Related Materials

ISBN

975-491-194-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

5

Pages from-to

58-62

Publisher name

Hacettepe University Press

Place of publication

Ankara, Turkey

Event location

Ankara, Turkey

Event date

Jan 1, 2005

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—