Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210192" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210192 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes.

Original language description

Application of plasma diagnostic for process development is described. The electron and/or ion density is shown to be a proper parameter for plasma characterization. This value is sensitive to changes of most process parameters like reactor configurationpower delivered into the discharge, and accidental events like sparks appearance as well. The application of this diagnostic tool is demonstrated on development of large-scale plasma polymerization process and on characterization of particular plasma sources contribution to production of charged particles in dual microwave/radiofrequency deposition system used for development of scratch-resistant coatings for plastic parts. helpful for process control and process development. Monitoring of particular ative particles is used for control of simple processes [e.g. 4]. For more complex processes the principle precursor is often not known. For such events monitoring of a complex parameter like electron density may yield useful information.

Czech name

Plasmová diagnostika pro rozvoj a optimalizaci plazmou aktivovaných depozičních procesů.

Czech description

Aplikace plazmové diagnostiky pro výbvoj procesu. Ukazjuuje se, že hustota iontů a elektronů jsou vhodným parametrem pro charakterizaci plazmy. Tato hodnota je citlivá ke změnám většiny procesních parametrů jako jsou konfigurace reaktoru, výkon dodávanývýboji a náhodné jevy jako je výskyt jisker. Použití tohoto diagnostického nástroje je demostrováno na vzniku nabitých částic v hromadném plazmovém polymerizačním procesu a na charakterizaci příspěvků určitých plazmových zdrojů k tvorbě nabitých částicv duálním mikrovlno/radiofrekvenčním depozičním systému použitém pro vývoj povlaků odolných proti poškrábání pro plastové díly, užitečné pro řízení procesu a jeho vývoj. Monitoring určitých aktivních částic se používá pro řízení jednoduchých procesů.[nap..4]. Pro složitější procesy často není znám základní precursor. V takových případech může monitorování komplexního parametru, jako je hustota elektronů, poskytnout platnou informaci.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

47th Annual Technical Conference Proceedings (2004)

ISBN

0737-5921

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

6

Pages from-to

465-470

Publisher name

Society of Vacuum Coaters

Place of publication

Albuquerque, NM 87122-1914 U.S.A.

Event location

Albuquerque, NM 87122-1914 U.S.A.

Event date

Jan 1, 2004

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—