Photocatalytic TiO2 thin Film Prepared by PE CVD at low Temperature.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F07%3A%40KMT0085" target="_blank" >RIV/46747885:24210/07:@KMT0085 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Photocatalytic TiO2 thin Film Prepared by PE CVD at low Temperature.

Original language description

TiO2 thin films were prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) technique. Titanium (IV) isopropoxide mixture with oxygen was used as the working gas. Films were deposited on glass and silicon substrates. Photocatalytic activity and photoinduced hydrophilicity of the films were investigated in dependence on experimental conditions. The films were characterized by scanning electron microscope (SEM), atomic force microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Photocatalytic properties of the films were strongly influenced by ion bombardment and deposition temperature. The film with anatase crystalline structure and with high photocatalytic activity was deposited at 120 8C under low energy ion bombardment

Czech name

Fotokatalytická tenká vrstva TiO2 připravená PE CVD při nízké teplotě.

Czech description

Tenké filmy TiO2 byly připraveny plazmaticky podporovanou chemickou depozicí z plynné fáze (PECVD). Jako pracovní plyn byla použita směs isopropoxidu titaničitého s kyslíkem. Filmy byly vyloučeny na skleněných a křemíkových substrátech. Byla zkoumána fotokatalytická aktivita a fotoindukovaná hydrofilita filmů v závislosti na experimentálních podmínkách. Filmy byly charakterizovány SEM, AFM, rentgenovou difrakcí (XRD), Rutherfordovou spektroskopií zpětným rozptylem (RBS), a rtg fotoelektronovou spektroskopií (XPS). Fotokatalytické vlastnosti filmŮ BYLY SILNĚ ovlivněny iontovým bombardováním a vylučiovací teplotou. Film s anatasovou krystalovou strukturou a s fotokatalytickými účinky byl nanesen při120 °C nízkoenergetickým iontovým bombardováním.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

JK - Corrosion and material surfaces

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Research centre for nanostructures engineering</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Volume of the periodical

4

Issue of the periodical within the volume

4

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

6

Pages from-to

"S350"-"S355"

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—