Technology of sputtering low-index SiO2 to reduce total deformation of optical element
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F47677023%3A_____%2F19%3AN0000022" target="_blank" >RIV/47677023:_____/19:N0000022 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Technologie naprašování nízkoindexového materiálu SiO2 pro snížení celkové deformace optického elementu
Original language description
Technologie výroby nízkoindexové optické vrstvy SiO2 kombinací depozice radiofrekvenčního SiO2 a středofrekvenčního okysličeného Si technikou magnetronového naprašování. Vhodnou kombinací je možné docílit minimálního vlivu na celkovou deformaci optické plochy. Technologie byla ověřena v rámci výroby vzorků a produktů ve společnosti Meopta – optika, s.r.o.
Czech name
Technologie naprašování nízkoindexového materiálu SiO2 pro snížení celkové deformace optického elementu
Czech description
Technologie výroby nízkoindexové optické vrstvy SiO2 kombinací depozice radiofrekvenčního SiO2 a středofrekvenčního okysličeného Si technikou magnetronového naprašování. Vhodnou kombinací je možné docílit minimálního vlivu na celkovou deformaci optické plochy. Technologie byla ověřena v rámci výroby vzorků a produktů ve společnosti Meopta – optika, s.r.o.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
—
OECD FORD branch
20506 - Coating and films
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TH03020196" target="_blank" >TH03020196: Advanced methods of preparation of thin film structured systems for optical applications</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2019
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
MEO_DP0018_2019_OT02
Numerical identification
OT
Technical parameters
Parametry procesu vakuové depozice optických vrstev – kombinace materiálů SiO2 a Si, tlak, teplota, napařovací rychlosti, – uložené v softwaru řídicí jednotky aparatury Helios 800 zabezpečující minimální vliv na deformaci nepovrstvené plochy.
Economical parameters
Bude použito ve výrobě.
Application category by cost
—
Owner IČO
47677023
Owner name
Meopta - optika, s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licence fee requirement
—
Web page
—