3D object written using the Nanogravure method with optimized spatial approximation of diffractive stairs

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F18%3AN0000002" target="_blank" >RIV/48950076:_____/18:N0000002 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

3D objekt zapsaný pomocí metody Nanogravure s optimalizovanou prostorovou aproximací difraktivních schodů

Original language description

Funkční vzorek byl připraven expozicí grafického návrhu ve formě datového zápisu na elektronovém litografu. 3D holografický objekt byl zapsán novou metodou pomocí nelineární mřížky generovatelné pouze na elektronovém litografu. Byly optimalizovány soustavy difraktivních schodů do velikosti 0,5 mikrometru pomocí metody povrchového tavení, což vede ke zvýšení prostorového vjemu a k odstranění parazitních difrakcí. Funkční vzorek je tvořený mřížkou se stejně širokými čtyřmi schody (300 nm), kdy tavení probíhalo po dobu 5 min při 125°C. Díky novému způsobu výpočtu difraktivních mřížek jsme dosáhli plné kontroly nad hloubkami a úhly mřížek.

Czech name

3D objekt zapsaný pomocí metody Nanogravure s optimalizovanou prostorovou aproximací difraktivních schodů

Czech description

Funkční vzorek byl připraven expozicí grafického návrhu ve formě datového zápisu na elektronovém litografu. 3D holografický objekt byl zapsán novou metodou pomocí nelineární mřížky generovatelné pouze na elektronovém litografu. Byly optimalizovány soustavy difraktivních schodů do velikosti 0,5 mikrometru pomocí metody povrchového tavení, což vede ke zvýšení prostorového vjemu a k odstranění parazitních difrakcí. Funkční vzorek je tvořený mřížkou se stejně širokými čtyřmi schody (300 nm), kdy tavení probíhalo po dobu 5 min při 125°C. Díky novému způsobu výpočtu difraktivních mřížek jsme dosáhli plné kontroly nad hloubkami a úhly mřížek.

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Project

<a href="/en/project/FV20020" target="_blank" >FV20020: Photonic structures in safety holograms (Modelling and design of photonic structures for safety holograms)</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2018

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

FV20182

Numerical identification

G FV20182

Technical parameters

Funkční vzorek byl připraven expozicí grafického návrhu ve formě datového zápisu na elektronovém litografu. 3D holografický objekt byl zapsán novou metodou pomocí nelineární mřížky generovatelné pouze na elektronovém litografu. Byly optimalizovány soustavy difraktivních schodů do velikosti 0,5 mikrometru pomocí metody povrchového tavení, což vede ke zvýšení prostorového vjemu a k odstranění parazitních difrakcí. Funkční vzorek je tvořený mřížkou se stejně širokými čtyřmi schody (300 nm), kdy tavení probíhalo po dobu 5 min při 125°C. Díky novému způsobu výpočtu difraktivních mřížek jsme dosáhli plné kontroly nad hloubkami a úhly mřížek. Postup přípravy vzorku: 1. Příprava dat 2. Nový způsob výpočtu mřížek v programu Blender 3. Efektivnější algoritmus uspořádání difraktivních schodů 4. Expozice dat na elektronovém litografu do vrstvy fotoresistu 5. Vyvolání expozice na niklový podklad

Economical parameters

Zvýšení množství nabízených produktů - ochraných holografických struktur určených proti padělání dokumentů a cenin

Application category by cost

—

Owner IČO

48950076

Owner name

OPTAGLIO a.s.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licence fee requirement

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Web page

—