FUNCTIONAL SAMPLE OF COMBINED SECURITY DOVID

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F19%3AN0000001" target="_blank" >RIV/48950076:_____/19:N0000001 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID

Original language description

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Byla využita klasická NIL. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky.

Czech name

Funkční vzorek kombinovaného bezpečnostního DOVID

Czech description

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Byla využita klasická NIL. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky.

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Project

<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2019

Confidentiality

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID

201902

Numerical identification

TE01020233V010

Technical parameters

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN.Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového resistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Poté byly zkombinované hologramy převedeny z polykarbonátového substrátu do niklu, znova za použití galvanoplastiky. Byla využita klasická NIL, což vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů byly vůči sobě odsazeny o ~ 2,7 μm. Odsazení může způsobovat plastické deformace embosovací matrice během jejího použití při embosování do holografické folie. Také může docházet k nerovnoměrné úrovni prolisování v ploše holografické folie, zejména při tenkých fóliích s tloušťkou do 20 μm.

Economical parameters

Zvýšení množství nabízených produktů - ochraných holografických struktur určených proti padělání dokumentů a cenin.

Application category by cost

—

Owner IČO

48950076

Owner name

OPTAGLIO a.s.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Licence fee requirement

—

Web page

—