Functional Sample - Hologram created using advanced electron beam lithography in combination with focused ion beam lithography
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F16%3AN0000001" target="_blank" >RIV/48950076:_____/16:N0000001 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Funkční vzorek - Hologram vytvořen vzorek za využití kombinace pokročilé EB a FIB litografie
Original language description
První funkční vzorek struktur byl připraven kombinací pokročilých litografických technik. Hologramy o rozsáhlé ploše (řádově desítky centimetrů čtverečných) jsou připravovány v rozumném čase na elektronových litografech s tvarovaným svazkem. Na litografu s Gaussovským svazkem a na litografu s fokusovaným iontovým svazkem jsme schopni za podobný čas vytvořit spíše menší plochy, jež se vyznačují mimořádně vysokým rozlišením. Spojením těchto technologií lze generovat velkoplošné hologramy s lokalizovaným extrémním rozlišením, čímž je umožněno vytvoření jedinečných struktur s několika výhodami oproti standardním vzorkům. Výsledky ukazují velký potenciál pro budoucí použití ve zcela nových aplikacích vyžadujících jednak velkoplošné hologramy a zároveň v dnešní době nejvyšší dosažitelnou míru jejich zabezpečení.
Czech name
Funkční vzorek - Hologram vytvořen vzorek za využití kombinace pokročilé EB a FIB litografie
Czech description
První funkční vzorek struktur byl připraven kombinací pokročilých litografických technik. Hologramy o rozsáhlé ploše (řádově desítky centimetrů čtverečných) jsou připravovány v rozumném čase na elektronových litografech s tvarovaným svazkem. Na litografu s Gaussovským svazkem a na litografu s fokusovaným iontovým svazkem jsme schopni za podobný čas vytvořit spíše menší plochy, jež se vyznačují mimořádně vysokým rozlišením. Spojením těchto technologií lze generovat velkoplošné hologramy s lokalizovaným extrémním rozlišením, čímž je umožněno vytvoření jedinečných struktur s několika výhodami oproti standardním vzorkům. Výsledky ukazují velký potenciál pro budoucí použití ve zcela nových aplikacích vyžadujících jednak velkoplošné hologramy a zároveň v dnešní době nejvyšší dosažitelnou míru jejich zabezpečení.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2016
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
G AMI 3781
Numerical identification
3781
Technical parameters
Šimon Černoušek,simon.cernousek@optaglio.cz, tel: +420 606 048 827
Economical parameters
Očekáváme růst zisku plynoucí z diversifikace produktového portfolia.
Application category by cost
—
Owner IČO
48950076
Owner name
OPTAGLIO s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—