Combination of electron lithography with Gaussian and shaped beams

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F15%3A00452395" target="_blank" >RIV/68081731:_____/15:00452395 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Kombinace elektronové litografie s gaussovským svazkem a s proměnným tvarovaným svazkem

Original language description

Jedním z hlavních témat vývoje v oblasti elektronové litografie je zvýšení exopziční rychlosti, tedy zvýšení vkonnosti, resp. propustnosti. Existují dva základní typy elektronových litografů, elektronové litogravy pracující s obdelníkovým svazkem proměnné velikosti a elektronové litografy pracující s gaussovským svazkem kruhového průřezu. Expoziční doba obou typů litografických systémů se v podstatě skládá z doby otevření svazku, z doby stabilizace vychylovacího systému a z doby projedzu stolu s exponovaným substrátem. Měření expoziční doby, resp. doby expozice, bylo prováděno na dvou tyepch exponovaných struktur: binárních mřížkách (s poměrem mezi exponovanou a neexponovanou oblastí 1:1) a víceúrovňových strukturách (počítačem generovaných hologramech). Expoziční data byla připravena tak, aby bylo možné zpracovat exponované substráty z obou typl litografů stejným technologickým postupem (PMMA resist, vyvoávací doba, bezalkoholová vývojka). Na základě výsledků experimentů můžeme říci,

Czech name

Kombinace elektronové litografie s gaussovským svazkem a s proměnným tvarovaným svazkem

Czech description

Jedním z hlavních témat vývoje v oblasti elektronové litografie je zvýšení exopziční rychlosti, tedy zvýšení vkonnosti, resp. propustnosti. Existují dva základní typy elektronových litografů, elektronové litogravy pracující s obdelníkovým svazkem proměnné velikosti a elektronové litografy pracující s gaussovským svazkem kruhového průřezu. Expoziční doba obou typů litografických systémů se v podstatě skládá z doby otevření svazku, z doby stabilizace vychylovacího systému a z doby projedzu stolu s exponovaným substrátem. Měření expoziční doby, resp. doby expozice, bylo prováděno na dvou tyepch exponovaných struktur: binárních mřížkách (s poměrem mezi exponovanou a neexponovanou oblastí 1:1) a víceúrovňových strukturách (počítačem generovaných hologramech). Expoziční data byla připravena tak, aby bylo možné zpracovat exponované substráty z obou typl litografů stejným technologickým postupem (PMMA resist, vyvoávací doba, bezalkoholová vývojka). Na základě výsledků experimentů můžeme říci,

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

JA - Electronics and optoelectronics

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/LO1212" target="_blank" >LO1212: ALISI - Centre of advanced diagnostic methods and technologies</a><br>

Continuities

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Publication year

2015

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Volume of the periodical

60

Issue of the periodical within the volume

1

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

4

Pages from-to

10-13

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—