FUNCTIONAL SAMPLE OF SECURITY DOVID

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F19%3AN0000005" target="_blank" >RIV/48950076:_____/19:N0000005 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

FUNKČNÍ VZOREK BEZPEČNOSTNÍHO DOVID

Original language description

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN. Byly provedeny tři expozice motivu Fresnelova čočka o velikosti 1 x 1 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 15 μC/cm2, proud ve svazku byl 325 pA. Byl exponován elektronový rezist 495 PMMA A 15 s tloušťkou 1,7 μm, který byl pomocí odstředivky nanesen na křemíkový substrát. Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Byly provedeny tři expozice motivu Optaglio Lion o velikosti 22 x 33 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 3,5 μC/cm2, proud ve svazku byl 150 pA. Dále byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Funkční vzorek byl vyroben modifikovanou NIL, co vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů jsou v jedné rovině

Czech name

FUNKČNÍ VZOREK BEZPEČNOSTNÍHO DOVID

Czech description

Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. První hologram byl exponován na prototypu elektronového litografu o energii 80 keV od společnosti TESCAN. Byly provedeny tři expozice motivu Fresnelova čočka o velikosti 1 x 1 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 15 μC/cm2, proud ve svazku byl 325 pA. Byl exponován elektronový rezist 495 PMMA A 15 s tloušťkou 1,7 μm, který byl pomocí odstředivky nanesen na křemíkový substrát. Druhý hologram byl exponován na elektronovém litografu Tesla BS601. Byly provedeny tři expozice motivu Optaglio Lion o velikosti 22 x 33 mm. Během expozice byla expoziční dávka nastavena na 3,5 μC/cm2, proud ve svazku byl 150 pA. Dále byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. Funkční vzorek byl vyroben modifikovanou NIL, co vedlo k tomu, že plochy zkombinovaných hologramů jsou v jedné rovině

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Project

<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2019

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

2019- V016-OPT

Numerical identification

TE01020233-2019V016

Technical parameters

Funkční vzorek aplikuje výsledky výzkumu a vývoje ve výrobním procesu. Výzkum proběhl v rámci Oddělení výzkumu a vývoje společnosti OPTAGLIO a.s. v letech 2016 -2019. Funkční vzorek je kombinací dvou hologramů, přičemž každý hologram byl exponován jiným litografem. Po expozici a vyvolání motivů byly dané hologramy transferovány pomocí techniky galvanoplastiky z elektronového rezistu na křemíkovém substrátu do niklu. Následně byly niklové hologramy zkombinovány pomocí litografické techniky obtiskování v nanometrovém měřítku (NIL – Nano-Imprint Lithography) do polykarbonátového substrátu. funkční vzorek byl vyroben modifikovanou NIL, což způsobilo, že plochy zkombinovaných hologramů jsou v jedné rovině.

Economical parameters

Výsledek poslouží k rozšíření nabízeného portfolia bezpečnostních hologramů.

Application category by cost

—

Owner IČO

48950076

Owner name

OPTAGLIO a.s.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Licence fee requirement

—

Web page

—