Microvia substrates prepared by the photolithography
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23220%2F11%3A43911749" target="_blank" >RIV/49777513:23220/11:43911749 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Mikrovia substráty vytvářené fotolitografickým způsobem
Original language description
Záměrem disertační práce bylo vyvinutí nového fotocitlivého dielektrika s vlastnostmi vhodnými pro fotolitograficky vytvářené mikrovia substráty, vytvoření technologického postupu jeho výroby a stanovení jeho vlastností. S využitím popsané metody je možné minimalizovat rozměry výsledných elektronických zařízení a využít menší počet signálových vrstev. V první části práce jsou diskutovány metody vytváření mikrovia substrátů včetně jejich vlastností a možných aplikací. Práce se dále soustředí zejména na fotolitografickou metodu vytváření mikrovia substrátů. Jádro práce popisuje vývoj nově navrženého technologického postupu, včetně definice jednotlivých fází výroby a praktického ověření technologického postupu výroby kompozitních fotovia substrátů. Dále je v práci popsán vlastní návrh testovacích motivů pro měření aplikačních, mechanických a elektrických vlastností, výroba testovacích vzorků dle výše zmíněného postupu a následně měření a vyhodnocení aplikačních, mechanických a elektrickýc
Czech name
Mikrovia substráty vytvářené fotolitografickým způsobem
Czech description
Záměrem disertační práce bylo vyvinutí nového fotocitlivého dielektrika s vlastnostmi vhodnými pro fotolitograficky vytvářené mikrovia substráty, vytvoření technologického postupu jeho výroby a stanovení jeho vlastností. S využitím popsané metody je možné minimalizovat rozměry výsledných elektronických zařízení a využít menší počet signálových vrstev. V první části práce jsou diskutovány metody vytváření mikrovia substrátů včetně jejich vlastností a možných aplikací. Práce se dále soustředí zejména na fotolitografickou metodu vytváření mikrovia substrátů. Jádro práce popisuje vývoj nově navrženého technologického postupu, včetně definice jednotlivých fází výroby a praktického ověření technologického postupu výroby kompozitních fotovia substrátů. Dále je v práci popsán vlastní návrh testovacích motivů pro měření aplikačních, mechanických a elektrických vlastností, výroba testovacích vzorků dle výše zmíněného postupu a následně měření a vyhodnocení aplikačních, mechanických a elektrickýc
Classification
Type
O - Miscellaneous
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Others
Publication year
2011
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů