Composion, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000091" target="_blank" >RIV/49777513:23520/02:00000091 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Composion, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering

Original language description

W-Ti-N films were deposited by reactive DC magnetron sputtering from a W-Ti (30 at.%) target, in a mixture of argon and nitrogen at a total pressure of 0.5 Pa, onto steel and silicon substrates. The crystal structure, microstructure, composition, micro-hardness and residual stress were studied as a function of the partial pressure of nitrogen. The microhardness of the W-Ti-N films increased with increasing nitrogen concentration from 25 GPa for [N] = 0 up to a maximum of approximately 65 GPa at [N] = 25at.%. The maximum microhardness was found in films that simultaneously possessed: 1.the presence of two crystalline phases; 2.large microstrain; and 3.relatively low compressive residual stress.

Czech name

Složení, struktura, mikrotvrdost a zbytkové pnutí W-Ti-N vrstev deponovaných reaktivním magnetronovým naprašováním

Czech description

Vrstvy W-Ti-N byly deponovány technikou reaktivní DC magnetronové depozice. Krystalová struktura, mikrostruktura, složení, tvrdost a zbytkov0 pnutí byly studovány jako funkce parciálního tlaku dusíku. Tyto vrstvy vykazují tvrdost v rozsahu od 25 GPa ( [N]= 0) až do 63 GPa ([N]=25 at.% ) a zbytkové pnutí v rozsahu od -1.3 GPa až do -5.7 GPa. Největší tvrdost byla nalezena ve vrstvách, které splňovaly následující podmínky: (i) přítomnost dvou krystalických fází, (ii) velké mikropnutí , a (iii) relativně nízké tlakové zbytkové pnutí.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2002

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS

Number of pages

12

Pages from-to

136

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—