Morphology and Microstructures of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000269" target="_blank" >RIV/49777513:23520/02:00000269 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/49777513:23520/02:00000270

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Morphology and Microstructures of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings

Original language description

In the present article, we compare the morphology and microstructure of hard and superhard Zr-Cu-N nanocomposite films. It is shawn that the morphology strongly depends on the Cu content in the film. The film with a low Cu content exhibits a columnar structure. In contrast, films with a higher Cu content have a globular structure. The hardness of films depends on both the Cu content in the film and the structure of individual phases of the nanocomposite. The nanocomposite film of type nc-/nc- exhibits higher hardness than that of type nc-/a-; here nc- and a- denote the nanocrystalline and amorphous phases, respectively. The film of type nc-ZrN/nc-Cu with a low content exhibits the highest hardness of 50 GPa.

Czech name

Morfologie a mikrostruktura tvrdých a supertvrdých nanokompozitních povlaků Zr-Cu-N

Czech description

Provedená studie ukázala, že morfologie a mikrostruktura tvrdých (<40 GPa) a supertvrdých (>40 GPa) nanokompozitních vrstev Zr-Cu-N silně závisí na obsahu Cu. Vrstvy s nízkým (1-2 at.%) obsahem Cu vykazují sloupcovou mikrostrukturu, zatímco vrstvy s vyšším (>5-6 at.%) obsahem Cu mají globulární mikrostrukturu. Tvrdost vrstev Zr-Cu-N závisí jak na obsahu Cu tak i na struktuře jednotlivých fází nanokompozitu. Nanokompozitní vrstva tvořená 2 nanokrystalickými fázemi ZrN a Cu vykazuje nejvyšší hodnoty tvrdosti (až 50 GPa při 1-2 at.% Cu).

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/ME%20173" target="_blank" >ME 173: Magnetron sputtering of thin films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2002

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Japanese Journal of Applied Physics

ISSN

0021-4922

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

JP - JAPAN

Number of pages

5

Pages from-to

6529

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—