High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F04%3A00000152" target="_blank" >RIV/49777513:23520/04:00000152 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films
Original language description
We report on time-resolved optical emission spectroscopy, and time- and energy-resolved mass spectroscopy, in high-power pulsed dc magnetron discharges generated using an unbalanced circular magnetron with a planar copper target of 100mm in diameter at a
Czech name
Vysokovýkonové pulzní dc magnetronové výboje pro ionizované vysokorychlostní naprašování tenkých vrstev
Czech description
V tomto článku jsou uvedeny výsledky experimentálního studia vysokovýkonového pulzního dc magnetronového systému pro vysokorychlostní naprašování vrstev užitím optické emisní spektroskopie s časovým rozlišením a hmotnostní spektroskopie s časovým i energ

Project
<a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)