Structure and mechanical properties of DC magnetron sputtered Ti/Cu films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000087" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000087 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Structure and mechanical properties of DC magnetron sputtered Ti/Cu films

Original language description

TiC/Cu nanocomposite films with various copper content were deposited by DC unbalanced magnetron sputtering from sintered TiC target fixed by Cu rings of different inner diameters in pure argon. This makes it possible to prepare TiC/Cu films with Cu content ranging from approximately 5 to 85 at% Cu. The structure and mechanical properties were examined as a function of deposition parameters and Cu content in the film. Special attention is devoted to the total internal stress, parameters determining itsmagnitude and their correlation with mechanical properties. The TiC/Cu system is compared with similar nitride MeNx/Cu(Ni) (Me=Ti,Zr) systems and explanation of the different behavior of nitride and carbide systems is proposed.

Czech name

Struktura a mechanické vlastnosti vrstev TiC/Cu připravených DC magnetronovým naprašováním

Czech description

Za pomoci dc nevyváženého magnetronu byly v argonu nadeponovány nanokompozitní TiC/Cu vrstvy z TiC terče upevněného měděným kroužkem o proměnném průměru. To umožnilo připravit vrstvy s obsahem mědi od cca 4 do 80 at.%. Byly vyšetřeny korelace mezi strukturou (charakterizovanou pomocí XRD, Raman, SEM analýz) a mechanickými vlatnostmi na jedné straně a použitými depozičními parametry spolu s obsahem mědi ve vrstvách na straně druhé. Speciální úsilí bylo věnováno celkovému pnutí, parametrům předurčujícím jeho velikost a vazbu pnutí s mechanickými vlastnostmi. Vytvořený TiC/Cu systém je porovnán s obdobnými MeNx/Cu(Ni), (Me=Ti,Zr) systémy, přičemž bylo navrženo vysvětlení rozdílného chován

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

8

Pages from-to

531

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—