Properties of reactively sputtered W-Si-N films

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000291" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000291 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/49777513:23520/06:00000292
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Properties of reactively sputtered W-Si-N films
Original language description
This article reports on the d.c. reactive magnetron sputter deposition of W-Si-N films with a high content of Si and their physical and mechanical properties. Films were characterized by XRD, EDX, microhardness, elastic recovery, resistance to plastic deformation, macrostress and thermogravimetry.
Czech name
Vlastnosti reaktivně naprašovaných W-Si-N vrstev
Czech description
Článek se zabývá vlivem obsahu Si3N4 na mechnaické vlastnosti, vznesené pnutí a oxidační odolnost W-Si-N vrstev. Bylo prokázáno, že zvýšení obsahu Si3N4 fáze vede k změně struktury z krystalické na amorfní, zvýšení mikrotvrdosti, zvýšení odolnosti, saturaci zbytkového pnutí.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostructured thin films</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)