Effect of implanted argon of hardness of novel magnetron sputtered Si-B-C-N materials: experiments and ab initio simulations

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000072" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000072 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Effect of implanted argon of hardness of novel magnetron sputtered Si-B-C-N materials: experiments and ab initio simulations

Original language description

The paper deals with Si-B-C-N alloys were deposited by reactive magnetron sputtering in nitrogen-argon gas mixtures. Material structure and resulting mechanical properties were investigated using a combined approach of experiment and molecular-dynamics simulations. We find that, while at the higher Ar content (high substrate bias |Ub|) the material is practically homogeneous, at the low Ar content (low |Ub|) there are similar volumes of Si-rich (around the implanted Ar atoms) and Si-poor zones. This canincrease material hardness. The paper examines a temperature dependence of this phenomenon in the light of experimental results.

Czech name

Efekt implantovaného argonu na tvrdost nových materiálů Si-B-C-N připravených pomocí magnetronového naprašování: experiment a ab-initio výpočty

Czech description

Článek se zabývá materiály Si-B-C-N připravenými pomocí reaktivního magnetronového naprašování ve směsích argon-dusík. Struktura materiálů a související mechanické vlastnosti byly zkoumány experimentálně a pomocí výpočtů (molekulární dynamiky). Zjišťujeme že materiály s relativně vysokým obsahem Ar (vysoké předpětí na substrátech |Ub|) jsou prakticky homogenní, zatímco materiály s nízkým obsahem Ar (nízké |Ub|) se skládají z oblastí oblastí s vysokým (kolem implantovaných Ar atomů) a nízkým obsahem Si.Toto může vést k vyšší tvrdosti. V článku je diskutována teplotní závislost tohoto jevu v souvislosti s experimentálními výsledky.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Physics: Condensed Matter

ISSN

0953-8984

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

13

Pages from-to

1

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—