Effect of Addition on Structure and Properties of Sputtered TiC Films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000103" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000103 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Effect of Addition on Structure and Properties of Sputtered TiC Films

Original language description

The article reports on the effect of Al addition on the structure, macrostress, mechanical properties and oxidation resistance of TiC-Al thin films. These films were sputtered using dc unbalanced magnetron equipped with a TiC target fixed with an Al fixing ring of various inner diameters. It was found that a continuous increase in Al content in the TiC-Al film results in gradual change of the film structure from the crystalline TiC through X-ray amorphous TiC-Al to the crystalline Al2Ti, decrease in thecompressive macrostress up to its conversion to the tensile one decrease in film microhardness, and increase in its oxidation resistance.

Czech name

Vliv přidaného hliníku na strukturu a vlastnosti naprašovaných TiC filmů

Czech description

Článek popisuje vliv přidaného hliníku na strukturu, makropnutí, mechanické vlastnosti a oxidační odolnost TiC-Al filmů. Tyto filmy byly naprašovány za použití stejnosměrného nevyváženého magnetronu vybaveného TiC terčem (o čistotě 99.95 %) upevněného Alkroužkem (o čistotě 99.99 %) s proměnným vnitřním průměrem. Bylo zjištěno, že postupné zvýšení obsahu hliníku v TiC-Al vrstvách vede k: (i) postupné změně struktury od krystalického TiC přes XRD amorfní TiC-Al ke krystalickým TiAl2, (ii) snížení tlakového pnutí a jeho přechodu do pnutí tahového (iii) snížení mikrotvrdosti filmů (iv) zlepšení oxidační odolnosti.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

DE - GERMANY

Number of pages

1

Pages from-to

—

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—