All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000151" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000151 - isvavai.cz</a>

  • Alternative codes found

    RIV/49777513:23520/07:00000152

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films

  • Original language description

    Electron energy distribution function and local plasma parameters were investigated at the substrate position (100mm from the target) by means of time-resolved Langmuir probe diagnostics during high-power pulsed dc magnetron sputtering of copper films. Very high plasma densities were achieved at the voltage pulse repetition frequency, the pulse duration, the argon pressure and the average pulse current. At the same conditions, the kinetic temperature of electrons rose with an increasing power during a pulse. After an initial stage it was in the range 10500-12500K. Negative peaks of the floating potential were registered at the very beginning of the voltage pulse

  • Czech name

    Časově rozlišená diagnostika Langmuirovou sondou ve vysokovýkonových pulzních dc magnetonových výbojích během depozice měděných vrstev

  • Czech description

    Elektronové rozdělovací funkce podle energie a lokální plazmové parametry byly zkoumány v pozici u substrátu (100mm od terče) pomocí časově rozlišené diagnostiky Langmuirovou sondou během vysokovýkonového pulzního dc magnetronového naprašování měděných vrstev. Velmi vysokých hustot plazmatu (až 2.1012cm-3) bylo dosaženo při opakovací frekvenci pulzů napětí fr=1kHz, délce pulzu t1=200&#956;s, tlaku argonu p=1Pa a průměrném proudu v pulzu Ida=50A. Při stejných podmínkách kinetická energie elektronů rostlas rostoucím výkonem během pulzu. Po iniciační fázi byla v intervalu 10500-12500K. Na začátku pulzu byly zaznamenány poklesy plovoucího potenciálu plazmatu.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2007

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

  • ISBN

    978-80-87026-01-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    3

  • Pages from-to

    1960-1962

  • Publisher name

    Institute of Plasma Physics AS CR

  • Place of publication

    Praha

  • Event location

    Praha

  • Event date

    Jan 1, 2007

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article