Highly ionized fluxes of sputtered titanium atoms in high-power pulsed magnetron discharges

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500264" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500264 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Highly ionized fluxes of sputtered titanium atoms in high-power pulsed magnetron discharges

Original language description

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized sputtering of titanium films were investigated. The depositions were performed using a strongly unbalanced magnetron source with a plannar titanium target of 100mm diameter. The repetition frequenceswere 1 and 20kHz at 20% and 50% duty cycles and argon pressures of 0.5 and 5Pa. Time evolutions af the discharge characteristics were measured at a target power density in a pulse up to 740Wcm-2. Time-averaged mass spectroscopy was carried out at substrate positions of 100 and 200mm from the target.

Czech name

Vysoce ionizované toky rozprášených titanových atomů ve vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojích

Czech description

Byly zkoumány vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje pro naprašování titanových vrstev. Depozice probíhaly za použití silně nevyváženého magnetronového zdroje a titanového terče o průměru 100mm. Opakovací frekvence byly 1 a 20kHz při 20% a 50% vyžitíperiody a tlaku argonu 1 Pa. Byla provedena hmotnostní spektroskopie v pozici substrátu ve vzdálenosti 100 a 200mm od terče. Bylo ukázáno, že argonové ionty jsou dominantní (69-81%) v celkovém iontovém toku na substrát. Energiová rozdělení titanových a argonovým iontů jsou rozšířená k relativně vysokým energiím. Podíl ionizovaných rozprášených titanových atomů v toku na substrát byl v rozmezí od 60% do 99%.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Plasma Sources Science and Technology

ISSN

0963-0252

e-ISSN

—

Volume of the periodical

17

Issue of the periodical within the volume

2

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

1

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000256543800033

EID of the result in the Scopus database

—