Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500293" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500293 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C

Original language description

The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dualmagnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing.

Czech name

Nanostruktura fotokatalytických vrstev TiO2 deponovaných při teplotě pod 200°C

Czech description

Článek se věnuje podrobné studii korelací mezi depozičními parametry procesu pulzní reaktivní duální magnetronové depozice vrstev TiO2 deponovaných při teplotě T pod 180°C, jejich fyzikálními vlastnostmi a fotoaktivitou. Byly prezentovány možnosti přípravy krystalických fotoaktivních vrstev bez nutnosti jejich post-depozičního žíhání a bylo ukázáno, že parciální tlak kyslíku a celkový tlak směsi Ar+O2 jsou klíčovými parametry ovlivňujícími vlastnosti deponovaných vrstev při dané výkonové zátěži magnetronů již 500 nm tlusté anatasové vrstvy vykazují velmi vysokou fotoaktivitu a další zvýšení jejich tloušťky nevede k výraznému zvýšení fotoaktivity a teplota depozičního procesu neovlivňuje při T<200°C výsledné vlastnosti vrstev, které jsou tak ovlivněny pouze částicemi, které dopadají a kondenzují na substrátu.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Crystallization of amorphous and nanocrystalline thin films</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Applied Surface Science

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Volume of the periodical

254

Issue of the periodical within the volume

13

Country of publishing house

NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS

Number of pages

8

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000255344500011

EID of the result in the Scopus database

—