Lattice stress gradient in ZnO:Al films sputtered on glass substrates

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F06%3A00000031" target="_blank" >RIV/49777513:23640/06:00000031 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Gradient mřížkového napětí ve vrstvách ZnO:Al deponovaných naprašováním na skleněných podložkách
Original language description
Oxid zinečnatý je atraktivní materiál s mnoha aplikacemi v mikroelektronice, zvláště v mikrosystémech a fotovoltaických technologiích. Tenké vrstvy ZnO dopované hliníkem jsou používané v solárních článcích jako transparentní vodivé oxidy (TCO). V tomto příspěvku je ukázána metoda určení gradientu mřížkového napětí ve vrstvách ZnO:Al pomocí rtg difrakčni analýzy z asymetrického profilu linie. Rtg analýza ukázala, že gradient mřížkového napětí ve vrstvách ZnO závisí na depozičních parametrech a na použitém substrátu.
Czech name
Gradient mřížkového napětí ve vrstvách ZnO:Al deponovaných naprašováním na skleněných podložkách
Czech description
Oxid zinečnatý je atraktivní materiál s mnoha aplikacemi v mikroelektronice, zvláště v mikrosystémech a fotovoltaických technologiích. Tenké vrstvy ZnO dopované hliníkem jsou používané v solárních článcích jako transparentní vodivé oxidy (TCO). V tomto příspěvku je ukázána metoda určení gradientu mřížkového napětí ve vrstvách ZnO:Al pomocí rtg difrakčni analýzy z asymetrického profilu linie. Rtg analýza ukázala, že gradient mřížkového napětí ve vrstvách ZnO závisí na depozičních parametrech a na použitém substrátu.

Project
<a href="/en/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materials and components for environment protection</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)