The influence of deposition parameters on structure and deposition rates of Al films prepared by magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F07%3A00000024" target="_blank" >RIV/49777513:23640/07:00000024 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

slovinština

Original language name

Vplyv parametrov depozície na štruktúru a rýchlosť rastu Al vrstiev pripravených metódou magnetrónového naprašovania

Original language description

The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.

Czech name

Vliv parametrů depozice na strukturu a rychlost růstu Al vrstev připravených metodou magnetronového naprašování

Czech description

Článek se zabývá vývojem vlastností tenkých vrstev Al připravených rf a dc magnetronovým naprašováním. Strukturní a optické vlastnosti deponovaných vrstev byly charakterizovány ve vztahu ke zdroji, naprašovacímu času a depozičnímu výkonu.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materials and components for environment protection</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Vrstvy a povlaky 2007

ISBN

978-80-969310-4-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

3

Pages from-to

197-199

Publisher name

Digital graphic

Place of publication

Trenčín

Event location

Rožnov pod Radhoštěm

Event date

Jan 1, 2007

Type of event by nationality

EUR - Evropská akce

UT code for WoS article

—