Preparetion of WO3 thin films by pulsed plasma and their characterizition

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F14%3A43898381" target="_blank" >RIV/60461373:22310/14:43898381 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Charakterizace WO3 tenkých vrstev připravených plasmatickým magnetronovým naprašováním

Original language description

Oxid wolframu (WO3) je důležitý materiál s elektrickými a optickými vlastnostmi, které jsou využívány pro různé aplikace. Je to polovodič s atraktivními elektrickými a optickými vlastnostmi (Eg ? 2.5-2.8 eV), dokáže zachytit přibližně 12% slunečního spektra a může absorbovat světlo ve viditelném spektru až do 500 nm. Práce se zabývá porovnáním fotoelektrochemických vlastností vrstev, které byly připraveny magnetronovým naprašováním. Vrstvy byly připraveny na skelných substrátech FTO (oxid cíničitý dopovaný fluoridem) při různých depozičních podmínkách. Vlastnosti deponovaných WO3 filmů byly studovány v závislosti na pulzní frekvenci a době trvání depozice. Wolframový terč byl reaktivně bombardován v atmosféře Ar + O2 při konstantním tlaku plynu p = 2,18 Pa. Část vrstev byla vyžíhána (450 °C). Krystalografická struktura připravených vrstev byla zjišťována Ramanovskou spektroskopií a RTG difrakcí. Morfologie vrstev byla sledována s využitím skenovací elektronové mikroskopie. Fotoelektroc

Czech name

Charakterizace WO3 tenkých vrstev připravených plasmatickým magnetronovým naprašováním

Czech description

Oxid wolframu (WO3) je důležitý materiál s elektrickými a optickými vlastnostmi, které jsou využívány pro různé aplikace. Je to polovodič s atraktivními elektrickými a optickými vlastnostmi (Eg ? 2.5-2.8 eV), dokáže zachytit přibližně 12% slunečního spektra a může absorbovat světlo ve viditelném spektru až do 500 nm. Práce se zabývá porovnáním fotoelektrochemických vlastností vrstev, které byly připraveny magnetronovým naprašováním. Vrstvy byly připraveny na skelných substrátech FTO (oxid cíničitý dopovaný fluoridem) při různých depozičních podmínkách. Vlastnosti deponovaných WO3 filmů byly studovány v závislosti na pulzní frekvenci a době trvání depozice. Wolframový terč byl reaktivně bombardován v atmosféře Ar + O2 při konstantním tlaku plynu p = 2,18 Pa. Část vrstev byla vyžíhána (450 °C). Krystalografická struktura připravených vrstev byla zjišťována Ramanovskou spektroskopií a RTG difrakcí. Morfologie vrstev byla sledována s využitím skenovací elektronové mikroskopie. Fotoelektroc

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

CA - Inorganic chemistry

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GAP108%2F12%2F2104" target="_blank" >GAP108/12/2104: Advanced semiconductor materials for photoelectrochemical water splitting</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2014

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

4. ročník konference Moderní TRENDY v anorganických technologiích 2014

ISBN

978-80-7080-889-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

4

Pages from-to

82-85

Publisher name

Vysoká škola chemicko-technologická v Praze

Place of publication

Praha

Event location

Praha

Event date

Jun 11, 2014

Type of event by nationality

CST - Celostátní akce

UT code for WoS article

—