All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Development of the process of ion beam sputtering of the ITO thin films

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F16%3A00473088" target="_blank" >RIV/61389021:_____/16:00473088 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Optimalizace a testování ITO vrstev

  • Original language description

    Všechny depozice ITO probíhaly za pokojové teploty na BK7 substrát tloušťky 80 mm. Během, někdy i po depozici, se teplota v komoře mírně zvyšovala především při použití asistenčního děla, nikdy však nepřesáhla 40 °C. Rychlost odprašování je relativně vysoká, proto byly použity relativně nízké výkony primárního iontového děla (KDC). Optimalizovala se příprava bez i s použitím asistenčního iontového děla (IBAD) s kyslíkovým nebo kyslíkovo-argonovým výbojem. Rychlost depozice určena podle krystalového monitoru (CRY), reálná se mírně liší podle typu depozice. Tloušťky vrstev určeny na základě měření elipsometru. Odpor měřen přiložením kontaktů na okraje vzorku v prostředku podél homogenní tloušťky vrstvy.

  • Czech name

    Optimalizace a testování ITO vrstev

  • Czech description

    Všechny depozice ITO probíhaly za pokojové teploty na BK7 substrát tloušťky 80 mm. Během, někdy i po depozici, se teplota v komoře mírně zvyšovala především při použití asistenčního děla, nikdy však nepřesáhla 40 °C. Rychlost odprašování je relativně vysoká, proto byly použity relativně nízké výkony primárního iontového děla (KDC). Optimalizovala se příprava bez i s použitím asistenčního iontového děla (IBAD) s kyslíkovým nebo kyslíkovo-argonovým výbojem. Rychlost depozice určena podle krystalového monitoru (CRY), reálná se mírně liší podle typu depozice. Tloušťky vrstev určeny na základě měření elipsometru. Odpor měřen přiložením kontaktů na okraje vzorku v prostředku podél homogenní tloušťky vrstvy.

Classification

  • Type

    V<sub>souhrn</sub> - Summary research report

  • CEP classification

    BH - Optics, masers and lasers

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Others

  • Publication year

    2016

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Number of pages

    8

  • Place of publication

    Turnov

  • Publisher/client name

    Crytur

  • Version