An impedance spectrograph for impedance measurement of a deposited layer in discharge plasma
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F17%3A73584782" target="_blank" >RIV/61989592:15310/17:73584782 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu
Original language description
Impedanční spektrograf plazmatu je zařízení, které umožňuje během doby růstu tenké vrstvy v plazmatu určit a vyčlenit z celkové naměřené impedance v reálném čase samostatnou impedanci deponované vrstvy, tedy její reálnou a imaginární část, v závislosti na frekvenci a určit kapacitu a paralelní odpor deponované vrstvy. Oddělením impedance deponované vrstvy na sondách získáme také samostatnou impedanci vlastního výbojového plazmatu. Z této impedance můžeme dále získat informaci o hustotě výbojového plazmatu tedy koncentrace elektronů ve výbojovém plazmatu.
Czech name
Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu
Czech description
Impedanční spektrograf plazmatu je zařízení, které umožňuje během doby růstu tenké vrstvy v plazmatu určit a vyčlenit z celkové naměřené impedance v reálném čase samostatnou impedanci deponované vrstvy, tedy její reálnou a imaginární část, v závislosti na frekvenci a určit kapacitu a paralelní odpor deponované vrstvy. Oddělením impedance deponované vrstvy na sondách získáme také samostatnou impedanci vlastního výbojového plazmatu. Z této impedance můžeme dále získat informaci o hustotě výbojového plazmatu tedy koncentrace elektronů ve výbojovém plazmatu.
Classification
Type
F<sub>uzit</sub> - Utility model
CEP classification
—
OECD FORD branch
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TA04011156" target="_blank" >TA04011156: Functional thin film optical structures.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2017
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
31194
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
Univerzita Palackého v Olomouci
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence