All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

An impedance spectrograph for impedance measurement of a deposited layer in discharge plasma

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F17%3A73584782" target="_blank" >RIV/61989592:15310/17:73584782 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

    <a href="http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu

  • Original language description

    Impedanční spektrograf plazmatu je zařízení, které umožňuje během doby růstu tenké vrstvy v plazmatu určit a vyčlenit z celkové naměřené impedance v reálném čase samostatnou impedanci deponované vrstvy, tedy její reálnou a imaginární část, v závislosti na frekvenci a určit kapacitu a paralelní odpor deponované vrstvy. Oddělením impedance deponované vrstvy na sondách získáme také samostatnou impedanci vlastního výbojového plazmatu. Z této impedance můžeme dále získat informaci o hustotě výbojového plazmatu tedy koncentrace elektronů ve výbojovém plazmatu.

  • Czech name

    Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu

  • Czech description

    Impedanční spektrograf plazmatu je zařízení, které umožňuje během doby růstu tenké vrstvy v plazmatu určit a vyčlenit z celkové naměřené impedance v reálném čase samostatnou impedanci deponované vrstvy, tedy její reálnou a imaginární část, v závislosti na frekvenci a určit kapacitu a paralelní odpor deponované vrstvy. Oddělením impedance deponované vrstvy na sondách získáme také samostatnou impedanci vlastního výbojového plazmatu. Z této impedance můžeme dále získat informaci o hustotě výbojového plazmatu tedy koncentrace elektronů ve výbojovém plazmatu.

Classification

  • Type

    F<sub>uzit</sub> - Utility model

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TA04011156" target="_blank" >TA04011156: Functional thin film optical structures.</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2017

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Patent/design ID

    31194

  • Publisher

    CZ001 -

  • Publisher name

    Industrial Property Office

  • Place of publication

    Prague

  • Publication country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Date of acceptance

  • Owner name

    Univerzita Palackého v Olomouci

  • Method of use

    A - Výsledek využívá pouze poskytovatel

  • Usage type

    P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence