IR Laser-Induced Co-Decomposition of Gaseous Trisilane and Carbon Disulfide

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F08%3A00305050" target="_blank" >RIV/67985858:_____/08:00305050 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/61388980:_____/08:00305050
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
IR Laser-Induced Co-Decomposition of Gaseous Trisilane and Carbon Disulfide
Original language description
A TEA CO2 laser irradiation of gaseous mixtures of trisilane and carbon disulfide results in decomposition of both compounds and chemical vapor deposition of solid polymeric films. The deposited polymers are a blend of a carbonaceous structure with a lowcontent of C-S-C bonds and a polysilthiane with a high content of Si-S-Si bonds.
Czech name
IČ laserově iniciovaný ko-rozklad trisilanu a sirouhlíku
Czech description
Ozařování plynných směsí trisilanu a sirouhlíku vede k rozkladu obou sloučenin a chemické deposici pevných polymerních filmů. Deponované polymery jsou směsí uhlíkové struktury s nízkým obsahem C-S-C vazeb a polysilthianu s vysokým obsahem Si-S-Si vazeb.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CF - Physical chemistry and theoretical chemistry
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/ME%20846" target="_blank" >ME 846: Laser induced chemical vapour deposition of nanosized metal sulfides</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)