Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F05%3A00000113" target="_blank" >RIV/49777513:23520/05:00000113 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/61389005:_____/05:00029512
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance
Original language description
Based on the results obtained for C-N and Si-C-N films, a systematic invetsigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on p-type Si substrates by dc magnetron co-s
Czech name
Reaktivní magnetronové naprašování tvrdých Si-B-C-N vrstev s oxidační odolností za vysokých teplot
Czech description
Článek se zabývá systematickým výzkumem reaktivního magnetronového naprašování tvrdých kvaternárních materiálů Si-B-C-N. Prvkové složení vytvořených materiálů, jejich vazebná struktura, mechanické vlastnosti a oxidační odolnost ve vzduchu byly primárně ř
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Journal of Vacuum Science and Technology A
ISSN
0734-2101
e-ISSN
—
Volume of the periodical
23
Issue of the periodical within the volume
—
Country of publishing house
US - UNITED STATES
Number of pages
10
Pages from-to
1513-1522
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—