Annual report, project MPO FR-TI1/574: Optimization of production flow in electron-beam lithography and mastering
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00336662" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00336662 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií
Original language description
Elektronový litograf BS600 je elektronově-optické zařízení s tvarovaným svazkem vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostruktur se submikronovým rozlišením. Cílem etapy projektu bylo rozšíření již dříve vyvíjeného expozičního režimu se zmenšeným svazkem tak, aby byl tento režim využitelný pro realizaci difraktivních struktur do celkové velikosti 30 mm x 30 mm. Tohoto cíle bylo dosaženo, jak popisuje předkládaná zpráva.
Czech name
Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií
Czech description
Elektronový litograf BS600 je elektronově-optické zařízení s tvarovaným svazkem vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostruktur se submikronovým rozlišením. Cílem etapy projektu bylo rozšíření již dříve vyvíjeného expozičního režimu se zmenšeným svazkem tak, aby byl tento režim využitelný pro realizaci difraktivních struktur do celkové velikosti 30 mm x 30 mm. Tohoto cíle bylo dosaženo, jak popisuje předkládaná zpráva.
Classification
Type
O - Miscellaneous
CEP classification
JP - Industrial processes and processing
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FR-TI1%2F574" target="_blank" >FR-TI1/574: Photovoltaic panel of a new generation</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2010
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů