Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A00100731" target="_blank" >RIV/68378271:_____/03:00100731 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition
Original language description
In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H2 ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy
Czech name
Vliv RF výboje na růst nanokrystalických diamantových vrstev deponovaných metodou pulsní laserové depozice
Czech description
V této studii je prezentován růst nanokrystalických diamantových vrstev metodou PLD v atmosféře čistého vodíku a metodou HPLD v směsi Ar+H2. HPLD systém je založen na kombinaci PLD s přídavným RF výbojem. Vlastnosti deponovaných vrstev byli studovány pomocí profilometru-Alfastep, XRD, ramanovou spektroskopií a skenovacím elektronovým mikroskopem

Project
<a href="/en/project/IAA1010110" target="_blank" >IAA1010110: Novel Laser-based Hybrid Technologies for thin Film Deposition</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2003
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)