Low pressure deposition LixZnyO thin films by means of RF plasma jet system

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F04%3A00100164" target="_blank" >RIV/68378271:_____/04:00100164 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Low pressure deposition LixZnyO thin films by means of RF plasma jet system
Original language description
Low pressure RF hollow cathode plasma jet system was used for deposition of LixZnyO thin films. Hollow cathode discharge was excited by either CW or pulse modulated RF power. reactive sputtering of composed hollow cathode in Ar and O2 was used for that purpose. Hexagonal structure of ZnO crystallites was identified in deposited films. Photoluminescence was studied on the deposited samples as well
Czech name
Nízkotlaká depozice LixZnyO tenkých vrstev pomocí vysokofrekvenčního tryskové plazmového zdroje
Czech description
Nízkotlaký vysokofrekvenční výboj v duté katodě byl použit k depozici LixZnyO tenkých vrstev. Výboj v duté katodě byl vybuzen buď v kontinuálním nebo RF pulzně modulovaném módu. Reaktivní rozprašování kompozitní trysky (duté katody) v argonu a kyslíku bylo použito k tomuto účelu. V připravených vrstvách byla nalezena hexagonální krystalická struktura ZnO. Navíc také byla studována fotoluminiscence na deponovaných vzorcích

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/KSK2043105" target="_blank" >KSK2043105: Processes in Plasmas and Interactions of Radiation with Matter</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)