Properties of TIOx films deposited at atmosphere pressure

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00079392" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00079392 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Vlastnosti TIOx vrstev deponované za atmosférického tlaku
Original language description
TIOx byli deponovány za použití RF bariérového pochodňového výboje, který pracuje za atmosférického tlaku a při nízké teplotě substrátu. Jako prekurzor byly použity páry Titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH.3)2]4 a jako substrát křemenné sklo.Depoziční podmínky při tvorbě vrstev byly u všech vzorků stejné. Byly zkoumány vlastnosti vrstev v závislosti na teplotě žíhání po depozici. U vrstev byla hodnocena tloušťka, anotvrdost, krystalinita vrstev metodou XRD difrakce a rychlost fotokatalytické degradace.
Czech name
Vlastnosti TIOx vrstev deponované za atmosférického tlaku
Czech description
TIOx byli deponovány za použití RF bariérového pochodňového výboje, který pracuje za atmosférického tlaku a při nízké teplotě substrátu. Jako prekurzor byly použity páry Titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH.3)2]4 a jako substrát křemenné sklo.Depoziční podmínky při tvorbě vrstev byly u všech vzorků stejné. Byly zkoumány vlastnosti vrstev v závislosti na teplotě žíhání po depozici. U vrstev byla hodnocena tloušťka, anotvrdost, krystalinita vrstev metodou XRD difrakce a rychlost fotokatalytické degradace.

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./
ISBN
80-239-6135-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
93-34
Publisher name
Česká společnost pro povrchové úpravy
Place of publication
Praha
Event location
Brno
Event date
Nov 23, 2005
Type of event by nationality
EUR - Evropská akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)