Glass substrate sample with phase modifications structure formed by wavelength 1030 nm
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00573812" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00573812 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Vzorek skleněného substrátu se strukturou fázových změn vytvořenou pomocí vlnové délky 1030 nm
Original language description
Matice kráterů o průměru 7 mikronů a hloubce 500 nm s odsazením 0,7 mm horizontálně a 1,5 mm vertikálně, nacházející se na obou stranách skleněného substrátu typu Schott D263 o rozměrech 50x50 mm2 a tloušťce 0,1 mm.
Czech name
Vzorek skleněného substrátu se strukturou fázových změn vytvořenou pomocí vlnové délky 1030 nm
Czech description
Matice kráterů o průměru 7 mikronů a hloubce 500 nm s odsazením 0,7 mm horizontálně a 1,5 mm vertikálně, nacházející se na obou stranách skleněného substrátu typu Schott D263 o rozměrech 50x50 mm2 a tloušťce 0,1 mm.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
—
OECD FORD branch
20501 - Materials engineering
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TM01000021" target="_blank" >TM01000021: Development of non linear absorption driven optic system and proces for high throughput TGV formation</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2022
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
TM01000021-V4
Numerical identification
TM01000021-V4
Technical parameters
Na substrátu D263 o tloušťce 0,1 mm jsou pomocí několika paralelních Besselovských svazků vytvořeny krátery na přední i zadní straně, mezi kterými se nachází masa fázově změněného materiálu s mikrokanálky vytvořenými díky nelineárním jevům vznikajícím při průchodu ultrakrátkých laserových pulzů s vysokou fluencí. Procesní rychlost je > 10 000 kráterů za vteřinu, fluence ve svazku > 6 Jcm-2 na vlnové délce 1030 nm, poziční odchylka kráterů < 10% průměru.
Economical parameters
Výsledek slouží ověření funkčnosti technologie mnohosvazkového zpracování dielektrických materiálů Besselovským svazkem a bude využit pro další rozvoj této technologie. Díky provedené modifikaci je možné krátery vyleptat a vytvořit tzv. TGVs (thru-glass-vias), díky čemuž lze takový substrát použít jako hostovací materiál pro vysokofrekvenční mikroelektroniku. Protože Fyzikální ústav nemá jako svoji hlavní činnost výrobu v oblasti mikroelektroniky, bude hledat vhodného průmyslového partnera pro další rozvoj této technologie.
Application category by cost
—
Owner IČO
68378271
Owner name
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
Licence fee requirement
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Web page
—